台积电用上英伟达计算光刻平台生产
年初,英伟达携手半导体领域的领军企业台积电和新思科技,共同推进计算光刻平台的应用,旨在加速下一代先进半导体芯片的制造进程,挑战物理极限。英伟达的领军人物黄仁勋强调,计算光刻作为芯片制造的关键技术,通过cuLitho平台与创新算法的结合,能显著改善半导体生产工艺,超越传统CPU驱动方法的效能。
台积电已采纳cuLitho计算光刻平台,以此加快其最前沿芯片技术的开发步伐。英伟达还融入了生成式人工智能算法,与加速计算技术相辅相成,使生产效率再获双倍提升。
台积电的掌舵人魏哲家指出,双方的合作将GPU加速运算整合进台积电的工作流程,这一举措不仅带来了性能上的巨大飞越,还成功缩减了周期时长,降低了能耗标准,同时提升了处理能力。
计算光刻技术核心在于通过精密的软件模拟优化光刻过程,它借助数学手段预处理光掩模数据,调整光学效应,确保光刻图像与芯片设计的高度契合,提升成品率。cuLitho计算光刻库的巧妙运用,使得任务能够高效地分配给GPU并行处理,仅仅500台NVIDIA DGX H100即可匹敌由40000个CPU构成的系统处理能力。
据英伟达介绍,采用GPU进行计算光刻相较于CPU能实现效率40倍的跃升,极大缓解了芯片制造厂的压力,推动半导体产业迈向新的高度。台积电用上英伟达计算光刻平台生产!
本文来自互联网用户投稿,该文观点仅代表作者本人,不代表本站立场。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如若转载,请注明出处:http://www.rllx.cn/EtII/141330.gov.cn
如若内容造成侵权/违法违规/事实不符,请联系一条长河网进行投诉反馈邮箱:809451989@qq.com,一经查实,立即删除!